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가공액은 오염액 입구를 통해 연속적으로 회전체로 흘러들어가고 강한 원심력이 주어집니다.
고형물은 회전체 내벽에 밀어 붙여져 분리, 침전되어 쌓입니다. 회전체에 고형물이 가득차면 청정장치를 정지시키고 청소를 해야 합니다. ( 회전체의 뚜껑을 풀어내면 침전된 고형물을 손으로 쉽게 제거 할 수 있습니다.)
고형물이 제거된 청정액은 가공액 공급장치로 되돌아 갑니다.
 
각종 공작 기계 : 가공액의 정화 및 절삭칩의 분리, 호닝머신, 건드릴 머신, 수퍼피니싱 머신, 방전 가공기, 정밀 연마기, 전해연마기, 기어 연마기, 햇다, 전용기, 세척기, 절단기, 센타레스연마기, 반도체 관련 가공장비, 기타
렌즈, 프리즘 가공기, 유리가공기
유압작동유, 냉동기 오일내의 금속가루, 녹, 모래, 슬러지, 시일파편의 제거
배수 1차 처리 : 도장부스 탱크내의 찌꺼기 분리, 배수중의 진흙, 모래, 기타 고형물의 제거
 
단위 : (제거미립자 크기) / 비중 1.4 기준
유량
SF-20N
SF-50N,S,A
SF-100N,S,A
SF-200S,A
PSF-100A
PSF-200A
PSF-400A
5
5
2
1
1
1
1
1
10
7
3
1
1
1
1
1
20
10
5
2
1
2
1
1
30
(15)
7
3
1
3
1
1
50
10
5
3
5
3
1
75
(15)
7
4
7
4
3
100
10
5
10
5
4
150
(30)
7
(30)
7
5
200
10
10
7
400
10
* 상기표는 실험값으로 분리 효과는 액의 점도, 미립자의 비중에 따라 약간 차이가 있을 수 있음.
 
수동 (SF-□□N)
반자동 (SF-□□S)
자동 일반형 (SF-□□A)
자동 강력형 (PSF-□□□A)
* 사진을 클릭하시면 자세한 정보를 보실 수 있습니다.